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厦门越昌科技有公司

Xiamen Yuechang Technology Co.,LTD

  • 光栅尺激光直写
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    厦门越昌科技光栅尺激光直写系统,依托高精度激光光刻与精密运动控制技术,可直接在基材表面完成光栅线条的微纳刻写,实现光栅标尺、衍射光栅、编码光栅的高效制备。

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商品描述

厦门越昌科技光栅尺激光直写系统,依托高精度激光光刻与精密运动控制技术,可直接在基材表面完成光栅线条的微纳刻写,实现光栅标尺、衍射光栅、编码光栅的高效制备。


  厦门越昌科技光栅尺激光直写系统,依托高精度激光光刻与精密运动控制技术,可直接在基材表面完成光栅线条的微纳刻写,实现光栅标尺、衍射光栅、编码光栅的高效制备。光栅尺激光直写系统设备具备线宽可控、刻线均匀、周期精度高、可柔性定制图案等优势,为精密测量、光电传感、光学仪器等领域提供光栅母版与成品光栅加工方案,是高端计量器件国产化制造的核心装备。

  在精密测量仪器行业,光栅尺激光直写系统用于线性光栅尺、圆光栅的母版直写加工。光栅作为位移检测核心元件,其刻线精度直接决定机床、三坐标测量仪、位移台的测量准确度。光栅尺激光直写可制作纳米级周期光栅,降低光栅尺的周期误差,提升检测设备的定位与读数稳定性,赋能精密检测设备厂商自主生产高精度光栅标尺。

  光电与光学元件领域,可加工各类衍射光栅、相位光栅,应用于光谱仪、单色仪、激光分光器件。通过激光直写制备的光栅,线条边缘锐利,衍射效率稳定,满足分析仪器、光纤通信器件的光学分光需求,支撑光谱检测、激光调制等核心功能。

  半导体与微纳加工领域,用于微尺度编码光栅、对位标记光栅的制备。可在玻璃、金属薄膜等多种基材上完成微细图形直写,适配晶圆检测、光学对位平台的光栅编码件加工,满足半导体设备亚微米级对位检测要求。

  科研与高校实验室场景,支持定制化光栅样品快速打样。科研人员可按需调整光栅周期、刻线长度与图形结构,无需昂贵的掩模版,大幅缩短光栅样品研发周期,助力微纳光学、精密计量相关课题研究。

  同时光栅尺激光直写系统也可服务于自动化设备、精密机床行业,生产伺服反馈用编码光栅,提升数控设备的位置反馈精度。厦门越昌科技立足精密检测装备研发,可根据客户基材、尺寸、精度指标做工艺适配,提供光栅直写整套技术方案,助力国内精密光学与计量器件产业升级。


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